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    三氟化氯(CIF3):岩谷韩国公司积极扩大的主营产品之一

  • 来源:气体圈子 时间:2019-10-21 09:37
     气体圈子讯:日媒The Gas Review 近期采访了岩谷韩国公司总裁Toshinori Maeda,该公司正在积极扩大其电子特气三氟化氯(CIF3)、智能手机功能薄膜、工业气体和其他材料等主营业务的销售。


     岩谷韩国公司22年前只是作为一个联络处,后来改为Soul Branch,1997年在当地正式成立子公司。公司成立之初主要是采购韩国生产的石化产品、不锈钢和铁,然后出口到日本销售。从2000年左右开始,韩国电子行业开始爆炸式增长,他们开始往韩国进口各种电子特气及其他材料,并迅速扩大了业务范围。

     岩谷韩国公司虽然经营了集团的多种产品,但气体和电子材料仍然是其主营产品。它们主要向电子制造商供应特种气体CIF3(用于半导体设备的清洁气体)和氦气。气体业务的销售额约占公司销售总额的50%,材料产品的销售规模也已达到可与气体业务相匹敌的水平。公司一直都有从事海外业务,现在正积极扩大对中国市场的销售路线。回顾去年的业务,Maeda说,“我们也努力扩大CIF3的销售,但在2018年,我们的功能薄膜在智能手机上的应用非常出色。”2018财年的销售总额约为35亿日元。对比近年来的销售额,两年内增加了10亿日元。推动这一增长的动力来自于两个方面的销售扩张:CIF3和智能手机功能薄膜。

     岩谷韩国公司作为一家本地化子公司,充分发挥了其接近用户的优势,从而达到迅速扩张和发展的目的。这也许就是外资企业常说的本土化策略。


     CIF3是一种用于清洗化学气相沉积腔室及其管道清洗的重要的电子特气。与其他含氟气体(如NF3C2F6CF4)不同,三氟化氯在室温下就能够与半导体材料进行反应,因此它可以清洗冷壁CVD腔室。用三氟化氯进行清洗是一种化学刻蚀过程,腔室的热量足以使其分解并与半导体材料反应,不存在等离子体那样的高能离子轰击过程,对设备的损坏可以降低到最低限度。相比等离子裂解制氟工艺,三氟化氯清洗工艺简单而高效,且清洗效果更好。



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